反应离子刻蚀机
[ 基础信息 ]
生产国家 : 中国
制造厂商 : 北京泰龙电子技术有限公司
购置日期 : 2015-09-25
规格型号 : RIE-150A
[ 分类信息 ]
设备类型 : 工艺实验设备, 其他, 其他
设备编号 : 16000039
[ 联系信息 ]
联系人 : 管志强
存放地址 : 文理学部文理学部东中区物理楼二期（物理学院D区）二层D-106D-106
联系电话 : 18627154793
联系邮箱 : zhiqiang.guan@whu.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
工艺气体：SF6, CH4, CHF3, O2, Ar
主要功能及特色 :
硅和其他硅基材料刻蚀
主要规格及技术指标 :
1.五路工艺气体：O2、CF4、CHF3、SF6、Ar；一路吹扫气体：N2。 2.射频源功率：功率不小于1000W，频率13.56MHz，快速自动匹配，匹配时间小于5s，带有预置及存储功能。 3.刻蚀材料：硅、二氧化硅、氮化硅、石英等材料。 4.蚀刻均匀性：对4英寸直径硅片，间距不小于30毫米的五点法测量刻蚀深度相差不超过±5%。 5.最小刻蚀线条≤1微米图形。
