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主要规格及技术指标

主要技术指标*进样室极限真空度: 5x10-4Pa (与镀膜室相连) ;二维驱动样品存储机构，可储存5个115mm*130mm*9mm的样品，可对其中一个样品进行烘烤除气(烘烤温度150°C以上) ;进样室右侧连接手套箱;真空镀膜室极限真空度: 5x10-5 Pa;配备机械手臂,实现样品在真空环境下不同 腔室之间的传递; 顶部安装样品台,样品台可旋转，不加热，可上下升降(-维调节)，运动范围大于50mm,n, 该样品台带水冷系统;配手动型总挡板一 个。样品托架可侧面插入115mm* 130mm*9mm样品- -片;真空腔室侧面安装电子束蒸发源，金属密封，集成在一个CF150法兰上;配置4穴水冷式坩埚，坩埚容量≥5 ml,坩埚直线移动更换，自带遮挡板;底部四个热蒸发源,每个蒸发源有对应的CF16法兰口(倾斜角与蒸发 源法兰中心线垂直)安装挡板;中部侧边四个热蒸发源，每个蒸发源可直线驱动300mm, 配备两套电流源，每个蒸发源兰. 上方有对应的水平CF16法兰口安装挡板。 对分子泵、束源炉，子束坩埚有断水报警(延时切断相应电源)功能。

主要附件及配置

无

主要功能及特色

金属，金属化合物薄膜沉积