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主要规格及技术指标

1、分辨率：二次电子：≤3.0 nm（30 kV），≤8.0 nm（3 kV）；2、0.2-30 kV，10 V步进连续可调；3、镜筒上无任何机械调整部分，无需人工调整光阑，通过电磁透镜自动调整；4、样品台移动范围：X≥35 mm，Y≥35 mm，Z≥27 mm，旋转：360度，倾斜：-90度~90度，其中样品台X、Y方向必须为压电陶瓷驱动，且带坐标反馈；5、样品室尺寸：内部直径≥160 mm，门宽≥120 mm，需预留最少10个以上接口，放样数量≥7个；6、高真空二次电子探头，采用YAG材料闪烁体。

主要附件及配置

无

主要功能及特色

1、扫描电镜部分：拍摄高质量SEM图像以获取样品表面微观形貌。2、能谱仪：检测样品元素组成，分别为点扫模式、线扫模式和面扫模式。3、电子束曝光系统：使用电子束在样品表面制造图样，是搭建二维材料器件的关键步骤，具有高精度、高强度等特点。