电子束蒸发设备
仪器编号
11000001
规格
生产厂家
科特莱斯科公司
型号
PVD75
制造国家
美国
购置日期
2011-01-04
放置地点
文理学部文理学部东中区物理楼(物理学院A、B、C、附B、附C区)四层C-401C-403
出厂日期
2009-04-29

主要规格及技术指标

可蒸镀最大4inch的基片;基片可加热至500℃,也可水冷;控制电压4-10kV;电子束电流0-500mA。;最低真空度2X10-7 Torr;四个材料源

主要附件及配置

蒸镀靶材:Ag、Al、Cu、Ni、Ti、Ge等金属;Al2O3、 MgO、 TiO2 等金属氧化物;MgF2、 SiO、 CaF2、 ZnS、 Si3N4 、ITO 、SiO2等无机物

主要功能及特色

高熔点材料蒸镀

公告名称 公告内容 发布日期

暂无收费标准