大型仪器设备开放共享网络平台
仪器设备 /
土木建筑工程学院 /
高真空磁控溅射系统
高真空磁控溅射系统
仪器编号
20000029
规格
Angstrom Engineering Inc./Nexdep
生产厂家
Angstrom Engineering Inc./Nexdep
型号
Nexdep
制造国家
美国
购置日期
2018-09-18
放置地点
力学楼103土木建筑工程学院
出厂日期
2018-08-18
主要规格及技术指标
镀膜精度：5nm；温度上限：500℃；最多支持三靶材共镀
主要附件及配置
无
主要功能及特色
高通量制备合金微纳米厚度膜，可开发新材料或则结合超塑性纳米压印制备新的微纳米结构
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
|---|
暂无收费标准
版权所有 © 武汉大学实验室与设备管理处 访问量: 4897498 地址：湖北省武汉市武昌区八一路 299 号