厚度,电压电流,速率
无
蒸发镀膜是在较高真空度条件下加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。通过晶振片检测以及仪器软件设定,可以得到特定膜厚的薄膜。