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主要规格及技术指标

ICP的最大功率可达3000 W，频率为13.56MHz；低位电极功率最大可达300 W，频率为13.56 MHz；本底真空度小于4×10-6 Torr,极限真空度为3×10-7 Torr；多路工艺气体气路选择，如CH4，H2，CF4，O2，SF6，Ar等；刻蚀样品尺寸要求，如尺寸为4英寸，3英寸的单晶硅或氧化硅片等可以刻蚀，又如样品尺寸超过6英寸不能刻蚀等。

主要附件及配置

无

主要功能及特色

主要功能：ICP的原理是干法刻蚀，得到精确目标图案和深度结构，为实现后续的微加工工艺提供重要且必要的前提条件。