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主要规格及技术指标

单色Al Ka大面积XPS：能量分辨率 (eV） 灵敏度 (CPS)
≤0.5 600000
≤0.6 1500000
≤1.0 3500000
最佳空间分辨率优于20 um
成像XPS空间分辨率优于3 um

主要附件及配置

UPS, REELS, ISS, ARXPS, 分析室加热冷却装置, 真空镀膜腔室、光催化反应室、手套箱

主要功能及特色

XPS是一种应用广泛的表面分析方法（10nm以内），可对周期表中除了H, He外的所有元素进行定性、定量和价态分析；结合离子束刻蚀可进行片状或薄膜材料的深度分析；UPS可分析导电样品的价带结构，进行功函数的测量等。电子能谱在纳米材料、高分子材料、材料的腐蚀与防护、各类功能薄膜的机理研究、催化剂研究与失效等方面具有不可替代的作用，在化学、化工、物理、新材料、电子工业、能源、冶金、生物医学和环境科学中应用广泛。仪器由具备单色化XPS、平行成像XPS、离子散射谱ISS、反射电子能量损失谱REELS、紫外光电子谱UPS、ARXPS分析的主机和真空镀膜腔室、光催化反应室、惰性气体传输及真空互联系统等组成。