大型仪器设备开放共享网络平台

主要规格及技术指标

LT STM系统1.系统1.1.分析腔真空度< 3E-10 mbar 1.2.准备腔真空度< 3E-10 mbar1.4.样品架可加热至910K 2.1样品最低温度 Tmin.≤5 K 2.2室温下Si(111)原子分辨2.35K下Au(111)原子分辨2.4 5K下Qplus在NaCI (100) 上原子分辨2.5 5K下超导gap测试2.6 5K下IETS测试2.7 5K下光学motor 可在三个方向.上移动顺畅3.LEED/AugerLEED 1) 20- 150 eV范围内可观察到lSi(111) 7X7衍射斑2)灯丝发射电流≥100μA Auger1)E = 60 - 560 eV范围内Si (111) 俄歇谱2)能量分辨△E/E <0.5 %RTTA 1.真空度< 3E-10 mbar 2.样品传输正常MBE1 1.真空度< 3E-10 mbar 2.样品传输正常3.样品架温度范围: 140K < T < 910 K 4. Film Thickness Monitor工作正常5. RHEED:可观察到Si(111) 7X7衍射斑MBE2 1.真空度< 3E-10 mbar 2.样品传输正常3.样品架温度范围: 140K < T < 910K 4. Film Thickness Monitor工作正常

主要附件及配置

无

主要功能及特色

用于物质表面材料组成分析，价态、性能测|试