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主要规格及技术指标

一、超高真空系统技术指标及功能需求
1.1腔体结构
1.1.1包括SPM腔，预处理腔和快速进样腔等三部分
1.1.2快速进样腔和预处理腔之间用插板阀分开
1.1.3全部腔体采用非磁性用304L或以上等级不锈钢制造。
1.1.4配备震动隔绝器，用于减小预处理腔与互联系统之间的震动传递。震动隔绝器与预处理腔之间采用插板阀分开。
1.2★真空泵系统：SPM腔与预处理腔可共用同一套泵系统，包含离子泵（抽速不小于150 l/s）、钛升华泵、分子泵（抽速不小于67 l/s）和前级机械泵（抽速不小于3 m3/h）。快速进样腔可使用主腔分子泵旁抽。真空度优于3*10-10 mbar。
1.3 配备真空规，用于真空度测量；配备整套真空控制系统。
1.4 快速进样腔可传递标准旗形样品托及扫描针尖转移台。
1.5★预处理腔配置4 inch样品转移台及样品存储台最多可存储9块标准旗形样品托或针尖转移样品托。
1.6★配备样品传递所使用的机械手，用于在4英寸样品转移台上取下标准旗形样品托。
1.7#配置真空控制系统，用户可实现对真空泵、真空规的控制。
1.8#配置程序化控制罩式腔体烘烤系统，烘烤时整套系统处于封闭状态，整套可烘烤至150 ℃以上；
1.9 配备显微镜镜头固定装置；
二、变温原子力显微镜技术指标及功能需求
2.1工作模式和性能参数
2.1.1★可在扫描隧道显微镜和激光反射式原子力显微镜两种模式下工作；系统能在50-500 K温度区间内进行STM成像和AFM成像；
2.1.2#在扫描隧道和原子力显微镜模式下达到Si(111)的原子分辨图像；
2.1.3★具备激光反射式原子力显微镜功能；可实现包括接触式AFM、非接触式AFM、PFM、LFM、导电力显微镜（CAFM）、磁力显微镜（MFM）、纳米摩擦（nanotribology）、静电力显微镜（EFM）、纳米光刻（nanolithography）等。具备远程可控原位样品及针尖更换功能，以保护针尖不易损坏；
2.1.4#z方向噪音低于0.1埃；
2.1.5★扫描范围(x*y*z)不小于：10 μm x 10 μm x 1.5 μm；
2.1.6★粗定位马达移动范围(x/y/z)不小于: 10 mm x 10 mm x 10 mm；
2.1.7隧穿电流范围：1 pA 至 330 nA；
2.1.8#配备涡流阻尼减震系统，用于扫描系统减震。
2.2变温性能
2.2.1#扫描台上可使用液氦或液氮制冷，可辐射加热；
2.2.2★通过辐射加热方式，可实现在不小于50 K-500 K范围内调节样品温度；
2.2.3#使用流动冷却时，温度漂移<1 K/hour；
2.2.4#配置液氦输液管和温度控制仪；
2.2.5配备样品传递所使用的机械手。
2.3SPM控制器：配置SPM控制器，可控制设备在扫描隧道显微镜和原子力显微镜模式下工作。
2.4#具备远程可控原位样品及针尖更换功能。
2.5可扩展QPlus AFM 功能。
2.6具备真空中的电流/电压转换功能。
2.7扫描探针显微镜控制器。
2.8可实时显示数据图像。
2.9配备CCD摄像头及照明光源，用于辅助调整针尖/样品及束斑位置。
2.10可实现针尖漂移补偿功能。
2.11 完整的数据采集系统、软件控制系统和后处理软件。
2.12 高性能电脑一台（处理器至少酷睿六代i7，内存至少16G，内存至少16G，固态硬盘至少512G）

主要附件及配置

无

主要功能及特色

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