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主要规格及技术指标

激光剥蚀系统：
300Hz 的193 nm气体激光器；
1ms至 1s灵活的洗出时间的剥蚀池；
1微米 – 150微米大小的激光束斑；
对样品烧蚀位置的实时能量测量；
0-20mJ的激光能量输出；

电感耦合等离子体质谱：
可进行质谱图、TRA、LA、单颗粒等模式分析，仅限在单颗粒模式下，积分时间可以设置低于10 ms（最低0.1 ms），其他模式默认0.1s；
氧化物156CeO+/140Ce+≤1.2%；
双电荷70Ce2+/140Ce+≤3%；
碰撞反应池可同时使用包含碰撞气与反应器至多四路气体。

主要附件及配置

无

主要功能及特色

该系统由 Iridia 193 nm 准分子激光剥蚀系统与 Agilent 8900-QQQ 串联四极杆 ICP-MS 联用组成，可实现固体样品的微区原位元素含量和同位素比值的高精度、无干扰分析。Iridia清洗时间低于 100 毫秒，支持高通量单脉冲分析和高速元素成像；8900-QQQ 则以独特的 MS/MS 模式工作，通过前后两个四极杆质量过滤器和碰撞/反应池的精确控制，利用氧气、氨气等反应气体彻底消除同量异位素和多原子离子干扰，检出限可达亚 ppt 级。两者联用后，可在无需样品消解的情况下，直接对矿物薄片、生物组织、合金材料、单个包裹体等固体样品进行微米级空间分辨率的元素分布成像及同位素定年分析。