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主要规格及技术指标

1.1 光学分辨率：目镜+相机观测可切换，反射式科勒照明光路，高精度自动检偏模组，成像解析精度扫描优于两倍激光波长;
1.2 配备5X物镜，工作距离34mm，配备20X物镜，工作距离20mm，配备100X物镜，工作距离12mm，优化波段480nm – 1800nm。
1.3 系统支持400 nm 至 10 um 激光的测试需求。
1.4 系统涵盖垂直电磁铁及电磁铁电源，磁场垂直于样品表面，强度不低于3000 Oe，电源为双极电磁铁，可平滑过零点。
1.4光源提供以下波长：360 nm, 405 nm, 473 nm, 532 nm, 671 nm, 808 nm, 1064 nm, 1342 nm, 1550 nm, 1950 nm激光功率大于100mW。4 um激光功率大于250mW。所有激光功率可程控，重复频率可程控，偏振性可电动控制。激光斑点直径小于2.5mm.
1.5 高性能电流转电压放大器模组，可配合锁相放大器做信号采集。
1.6兼容电学测试系统，兼容既有光谱仪系统，兼容低温系统（在有磁场的条件下）

主要附件及配置

无

主要功能及特色

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