大型仪器设备开放共享网络平台

主要规格及技术指标

1 工艺腔室：
1.1 真空腔室材料采用 SUS 304 不锈钢材质；
1.2 腔体尺寸不小于φ450mm×330mm，腔室采用水冷结构；
*1.3 腔室采用顶部法兰打开/关闭型（气缸式）；
1.4 腔室内壁采用电抛光工艺提高表面粗糙度，减小气体放气量；
*1.5 腔室配置内护罩，可拆卸更换；
1.6 真空腔室上焊接有法兰，便于外部设备的安装与连接，并且真空腔室配置观察窗口1个。
2 抽真空系统：
2.1 采用多级泵系统来抽腔体真空，主室极限真空优于 6×10-8Torr，在卸真空后，30 分钟内达到 5×10-6 Torr；
2.2 前级泵抽速不低于 600 升/分钟，后级泵抽速不低于 800 升/秒（N2）。
3 样品台模块：
3.1 样品台尺寸4 英寸（可放置 4
英寸硅片，向下兼容）；
*3.2 加热器最高温度1100摄氏度，衬底最高温度900摄氏度；
*3.3 采用可编程 PID 温度控制器及热电偶传感器实现温度闭环控制反馈，温控
精度±3℃，温度均匀性在 4 英寸衬底上的偏差≤5%；
3.4 样品台具有射频偏压清洗功能；
3.5 样品台沿 Z 轴可自动升降，行程 60mm；
3.6 旋转速度 0-30rpm。
4 磁控溅射靶枪：
*4.1 真空腔体内部安装磁控靶枪位 4 个，实际安装靶枪数3 支，其中强磁靶 1 支；
4.2 靶枪适用 2 英寸圆形靶材，靶材具有水冷功能；
*4.3 靶枪角度可调，倾斜角度 0~30 度可调，靶枪需要具有气动倾斜功能（通过
软件自动调节角度）；
4.4 靶枪高度可调，带靶枪挡板。
5 电源系统：
*5.1 直流溅射电源 1 套，功率1000W；
5.2 射频偏压电源 1 套，功率300W；
5.3 射频电源 1 套：功率 600W，含自动匹配器。
6 气路系统：
6.1 镀膜设备具有 3 路进气系统，配备100SCCM 质量流量控制器 1 套，配备50SCCM 质量流量控制器 2 套；
6.2 管线采用 VCR 接头连接；不锈钢管路采用 EP 等级抛光管；
6.3 设备配置混气装置。
7 设备框架：
7.1 机台采用一体化设计，快卸围板表面处理；
7.2 表面用不锈钢装饰，四只脚轮，可固定，可移动；
7.3 配备功率 2000W 国产冷水机一套。
8 控制系统：
8.1 控制系统采用 PLC+触摸屏（不低于19 寸）控制，可手自动控制，满足抽真空、镀膜自动化。
*8.2 在缺水、水压过低、电源过流、短路等异常情况执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；
8.3 具有工艺数据/工艺配方的编辑以及存储功能；
8.4 蜂鸣报警系统。
9 薄膜沉积均匀性：4 英寸薄膜厚度均匀性优于±5%（STD 偏差）

主要附件及配置

无

主要功能及特色

2