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主要规格及技术指标

1、真空室腔体尺寸：≤750×750×900mm，不锈钢腔体，
2、正面开门。右手侧开启
3、采用超高真空设计，系统极限压力优于2.6*10E-5Pa（12小时获得）；
4、低温泵（抽速大于5000L/sec）+干泵（大于5000L/min）组成真空抽气系统，
5、采用数显复合真空计测量真空；
6、蒸发系统：一套6工位电子枪，3组电阻蒸发系统，
配备可自动控制电源；
7、电子束火山口采用可拆卸设计，便于维护。电子束形状可调，
适应于金属和氧化物蒸发
8、配备进口膜厚仪一套，原装水冷晶振探头；5MHz
9、控制系统采用PLC,工业电脑，触摸显示器方式；
10、样品台具有旋转调速功能
11、腔体内部具有红外加热功能，最高加热温度≥350℃
12、蒸发距离可调功能
13、配备适用于2inch，4inch的少量研究开发镀膜夹具，和不定型小
基片的镀膜夹具。
14、控制系统与设备主体采用集成式设计，节约占地面积。
15、控制系统采用自动控制模式，也可以切换到手动控制模式。
16、膜厚分布±3%以下

主要附件及配置

无

主要功能及特色

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