01-场发射透射电子显微镜(Talos F200X G2)
仪器编号
1200001
规格
Talos F200X G2
生产厂家
赛默飞
型号
Talos F200X G2
制造国家
美国
购置日期
2024-08-01
放置地点
化学与分子科学学院 C118
出厂日期
2024-08-01

主要规格及技术指标

加速电压:20 kV – 200 kV
HRTEM 分辨率≤0.10 nm
STEM 分辨率 ≤0.16 nm
放大倍数:LM模式25x-2300x
M模式2300x-3300x
SA模式3300-630Kx
Mh模式630Kx-1.05Mx
STEM模式5000x-330Mx

主要附件及配置

主要功能及特色

本仪器配备三个STEM探头,包括高角环形暗场探测器(HAADF)和同轴明场/暗场探测器。同时配备实时的积分相位衬度像(iDPC)成像功能,可在同一幅STEM图像中同时获取轻重元素的清晰衬度,同时支持在极低束流下对MOF等电束敏感材料进行低损伤高衬度成像。采用四个对称式能谱探头, 四个无窗设计SDD硅漂移探测器构成完全旋转对称分布设计的多探头系统。可实现对样品极快速精准的 EDS的点、 线、面 、分析。

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