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主要规格及技术指标

高真空镀膜仪
1、真空系统
1.1 真空泵：隔膜泵+涡轮分子泵，无油真空系统；
1.2 最优真空度：2×10-6 mbar；
2、镀膜方式：配备金属离子溅射镀膜和碳丝蒸发镀膜两种方式；
3、离子溅射镀膜：
3.1镀膜厚度：1-1000nm可调，自动终止，检测精度0.1nm；
3.2 带有预溅射功能，金属靶带有挡板保护，挡板自动开启与关闭；
3.3 配备氩气灌洗功能，以去除管路中残留气体；
3.4 配备辉光放电功能，可用于清除样品表面残留气体，或用于对铜网亲水化，便于用铜网捞取切片；
4、碳丝蒸发镀膜
4.1 一次可安装不少于4组碳丝，单根或双根，可自动检测和切换碳丝；
4.2 镀膜厚度：1-100nm可调，自动终止，检测精度0.1nm；
5、样品台：三轴马达驱动旋转样品台，可旋转，可倾斜，可调节工作距离；
5.1 样品台角度：+/-60°可调，触屏控制，马达自动调节；
5.2 工作距离调节范围：30-100mm，触屏控制，马达自动调节；
5.3 工作台直径104mm，可插入24个SEM样品座；
6、镀膜靶源采用倾角式设计，配置旋转样品台，可使镀膜最均匀；
7、配备石英膜厚监控功能，可根据设定膜厚自动终止镀膜，实现镀膜厚度的精确控制，控制精度0.1nm；
8、靶材：钨靶2块，铂金靶1块，碳丝25米；
9、金属样品仓，玻璃单仓门，样品仓内壁可拆卸，样品仓宽200mm，深150mm，高195mm；
10、系统维护与清洁：样品室舱门、样品室内壁金属保护罩、镀膜挡板、靶材、样品台都可简易拆卸，清洁。

主要附件及配置

无

主要功能及特色

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