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主要规格及技术指标

1. 激发波长532nm
1）532 nm TEM00单频激光器，功率≥75 mW;
2）*532nm激发，拉曼超低波数好于10 cm-1，可实现正反斯托克斯拉
曼测试
3）#软件控制，激光功率连续可调，调节精度为0.1mw
4）*内置激光功率计，软件实时显示样品表面功率，软件控制样品表
面功率大小
2. 激发波长633nm
1）633 nm TEM00单频激光器，功率≥50 mW;
2）*633nm激发，拉曼超低波数好于100 cm-1
3）#软件控制，激光功率连续可调，调节精度为0.1mw
4）*内置激光功率计，软件实时显示样品表面功率，软件控制样品表
面功率大小
3. 光谱仪与检测器系统:
1）#光谱仪焦长：≥600 毫米；同时配备三块光栅，300, 600及1800
刻线, 可实现软件控制全自动切换，无需手动更换光栅，单窗口可覆
盖（3700 cm-1）
2）*高灵敏度光谱仪，光谱仪内无任何反射镜损耗信号。
3）光谱分辨率：优于0.8 cm-1；
4）#光谱重复性：优于0. 02 cm-1；
检测标准：在日常实验条件下，使用单晶硅，采用532 nm激发及100x
物镜，重复100次，观察硅520 cm-1拉曼峰位置的可重复性
5）*共聚焦高灵敏度：共聚焦测试条件下,能清晰地观察到硅的四阶
拉曼峰，其中硅的三阶拉曼峰（约1440 cm-1）信噪比好于25:1，要
求N2和O2拉曼峰不高于硅的四阶拉曼峰高度;
检测标准：使用单晶硅片，激光波长532 nm，激光功率不超过10.0
毫瓦，共聚焦针孔直径<= 50 微米，积分时间60秒，累积5次，显微
镜镜头为50x或100x
6）光谱检测器：采用高端低噪音CCD, 峰值量子效率>=90%, TE制冷
至-60度.
4. 共聚焦拉曼成像：
1) *真实针孔共聚焦系统：为了获得最佳的共聚焦效应，要求系统采
用真正的针孔共聚焦，而非狭缝式的赝共聚焦.
2) 快速（积分时间<=0.01 s）实时监测拉曼光谱，优化实验参数。
3) 快速成像：全光谱成像，单窗口（100-4000 cm-1）大光谱范围采
集，时间可≤10毫秒
4) *横向（XY方向）光学空间分辨率：使用100倍干物镜和共聚焦孔
不小于50 um时，拉曼成像横向光学分辨率：≤ 320 nm @ 532 nm，
越高越好。
检测条件: 以直径不超过50nm的一维纳米材料为样品(石墨烯完美边
缘也可以，光栅样品不

主要附件及配置

无

主要功能及特色

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