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主要规格及技术指标

1. 主机、对准平台、正面对准系统、曝光系统、光学系统、配套基片夹具以及掩膜版夹具、日常光强维护工具套装、原装进口防震台、365nm/405nm探头、365nm/405nm探头、护目镜、光强计主机
2. 可以实现软接触、硬接触、真空接触、接近式曝光；
3. 真空接触曝光精度 ≤0.8µm; 硬接触精度 ≤1µm; 软接触精度 ≤ 2µm; 接近式曝光精度 ≤ 3µm (1µm光刻胶条件下)；
4. 手动对准的单面曝光光刻机，对准精度≤ ±0.5µm并配有×5、×10、×20对准物镜；
5. 对准平台移动范围X, Y = ± 5mm; θ= ±5°，精度X, Y: 0.1um; θ= ±4e-5°；
6. 曝光光源为350W汞灯，紫外光波长为350nm～450nm，光强为40mw/cm2，光强均匀性可实现≤±2.5%，曝光头面积≥φ115mm，能够保证100mm有效范围内光强及其均匀性。
7. 配套基片夹具以及掩膜版夹具包括以下部分：5mmX 5mm~10mmX10mm小片夹具，10mmX10mm至20mmX20mm小片夹具，2寸基片夹具，4寸基片夹具各1个，都支持真空接触式曝光；掩模版架，2寸开孔（可放置3寸~5寸版）1个，4寸开孔（可放置5寸版）1个。

主要附件及配置

无

主要功能及特色

无