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主要规格及技术指标

"性能指标：
（1）基于 DMD 的无掩模光刻系统
（2）曝光波长: 385 nm (LED)
（3）准直波长: 590 nm (LED)
（4）2 个物镜(X2.5/X10)，配备磁性“快速释放”系统
（5）X1 的单次写入区域10.56mm × 5.94mm
（6）完整的拼接写入域110mm ×110 mm
（7）写入速度:220mm2/min
（8）最小特征尺寸1.5 um（X10 物镜）
（9）套刻精度: 1um
（10）旋转台 360°可旋转，0.1°精度
（11）兼容 SU-8、i 线和宽带光刻胶
（12）多功能样品载台（载玻片、2inch 晶圆、小样品）
（13）可兼容 4”和 5”方形掩模，2”和 4”圆形晶圆片，显微镜矩形玻片，14 毫米和 25 毫米圆形玻片。"

主要附件及配置

无

主要功能及特色

本科生、研究生实验教学